要想要生產製造先進製程的晶片，就必須要有先進的光刻機，在全球範圍內，目前光刻機技術最先進的廠商是ASML。

據悉，ASML生產製造的光刻機幾乎佔領了中高階市場，尤其是DUV光刻機和EUV光刻機，在這兩種光刻機中，EUV光刻機最為重要。

因為EUV光刻機是生產製造5nm、3nm等晶片必要裝置，關鍵是目前僅有ASML能製造。

另外，EUV光刻機被製造出來後，其就供不應求，今年的產能是45臺，預計未來兩年將生產製造115臺。

也就是因為EUV光刻機是當下最先進的技術，再加上，其又供不應求，所以ASML的EUV光刻機在沒有許可的情況下，是不能自由出貨的。

EUV光刻機不能自由出貨，很多人都認為這是因為美修改規則，畢竟ASML又採用美技術，所以美不允許ASML自由出貨EUV光刻機。

但實際上，EUV光刻機能否自由出貨，並非美一家說得算，因為ASML的EUV光刻機採用了多達42個國家的核心技術，凡是有一個國家不同意，其就不能自由出貨。

例如，ASML採用了美國的光源技術、德國徠卡鏡頭和多層膜技術以及其他國家的真空技術、抗腐蝕技術、掩模照明光學系統等。

可以說，EUV光刻機的零部件超過10萬個，其中，光源技術、微縮投影光學系統等8項是最核心的技術。

可以說，這些核心元器件來自不同國家的企業，才促使ASML生產製造出來這麼先進的裝置，所以在EUV光刻機出貨方面，需要42個國家都同意才能夠自由出貨，並美一家。

當然，就目前而言，ASML是基於自由出貨EUV光刻機，而ASML自由出貨EUV光刻機的最大阻礙就是美，畢竟，其他國家都同意，是美修改規則禁止ASML自由出貨的。

否則，ASML也不會公開發出警告，限制ASML等自由出貨，這不利於全球晶片產業的發展，甚至在未來15年後，ASML的光刻機在中國市場或許就沒有份額了。

還有一點就是，ASML近年來一直都在提升EUV光刻機的產能，預計在2021年、2022年和2023年共計生產160臺EUV光刻機。

而ASML加速提升EUV光刻機的產能，實際上就是想加速EUV光刻機的普及，解決EUV光刻機供貨不足的問題。

也就是說，EUV光刻機技術大量普及後，而EUV光刻機的產能又大於求的時候，ASML自然就能夠自由出貨了。

更何況，ASML已經開始正式生產製造全新一代EUV光刻機，計劃在2023年下線商用，屆時，現款EUV光刻機自然也就不是什麼最先進的技術了。

可以說，ASML加速提升產能，並正式生產製造全新一代EUV光刻機，這是一個好訊息，畢竟其利於現款EUV光刻機自由出貨。

一旦ASML實現EUV光刻機自由出貨，國內晶片製造企業就解決了所有Seven奈米晶片的生產問題，畢竟用DUV光刻機生產製造成本高、效率低。

關鍵是，有了EUV光刻機，國內廠商還能全面進入5nm、3nm等製程晶片的研發生產工作。

國產光刻機好訊息也不斷

除了ASML帶來的好訊息外，國內在光刻機技術方面也取得了不少的突破，像光源技術、光刻膠技術等。

最主要的是，國內廠商預計在年底就能夠建設國產28nm晶片生產線，而全新一代上海微電子的光刻機預計在今年底或明年初下線投產。

也就是說，國產28nm等晶片建廠後，再加上國產新一代光刻機的到來，國內晶片需求問題就解決了七八成。

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