彼得·維尼克是ASML的CEO，曾在5月初的白宮半導體影片會議後表示，晶片出口限制，會反倒助推中國晶片自主技術提前到來，15年後，中國將能自己生產所有的東西。

ASML的擔心的理由很簡單，按照正常推理，如果中國實現光刻機國產化、實現高製程晶片製造的自主技術，半導體領域的裝置、產品價格將迎來大幅下降。ASML一臺先進的EUV光刻機售價高達1。2美元，顯然，這種技術領先的紅利，會被中國光刻機的到來打破。不僅如此，晶片的產能將迎來大幅提升，而且成本更低，這又會影響到臺積電等代工企業的利益。

但對於我們而言，半導體技術的進步，卻又至關重要，這不僅是手機、家電、汽車等產業發展的命門，更為未來科技產品迭代升級的催化劑。很多人拿研製光刻機和YUAN子彈對比，其實，兩者並沒有可比性。YUAN子彈是非造出來不可，即便花再大的投入和代價，也要把YUAN子彈造出來。但光刻機不同，過去能花錢買到，而且半導體技術和產品需要接受市場的考驗，如果沒有利潤和商業價值，自然也沒必要迫不及待的去做。如今情況已發生變化，自研半導體和光刻機的號角已經吹響，國產光刻機離我們還遠嗎？

彼得·維尼克關於國產光刻機和半導體技術的推論，並不是空穴來風，上海微電子已逐步實現28nm製程光刻機的製造技術，有望在年底，就能批次生產。這是國產光刻機“破冰”的一個重要節點，雖然與ASML的EUV光刻機，在技術上還存在差距，但能實現中端光刻機的製造，已實現從“零”到“1”的一次大跨步。

ASML也曾同樣擔心，如果不把光刻機賣給中國，大概三年，中國就能造出自己的光刻機。暫且不談論ASML的預測是否準確，但隱約已經感受到ASML沒有了曾經的底氣。光刻機制造技術難度確實很高，ASML的EUV光刻機，僅供應商就多達5000多家，而且遍佈全球。除了攻破沒有的技術，建立完整的半導體供應鏈體系，對半導體技術的發展也至關重要。

可以看到，過去一年，國內半導體投入超過1000億元，新成立的半導體關聯企業，更是多達數萬家。國產半導體不僅沒有一蹶不振，反而欣欣向榮，光刻機的研發細節暫時不會公開，但從行業內的大好局面，已足以說明對國產光刻機和半導體技術的信心。

三年也好，五年也罷，關鍵是要堅持自研技術的決心。在光刻機還沒有到來的關鍵時期，作為普通公眾，除了要對科研人員有信心，也同樣也要各司其職，做好自己的本職工作。半導體產業是一個大產業鏈，說不定你的辛苦工作和貢獻，也能為國產光刻機的早日實現，發揮助推作用。與其臨淵羨魚，不如自力更生，國產光刻機已在路上。

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