短短四十載,ASML卻用先進技術將昔日光刻機大國美國拉下神壇,並戰勝日本光刻機巨頭佳能、尼康,成為世界上唯一能夠製造7nm及以下EUV(極紫外光刻)工藝的光刻機裝置提供商...
除了中國科技企業外,美科技巨頭也已經開始行動了,比如IBM、谷歌等,IBM已經推出了兩代量子晶片,且預計在2023年就會推出超級量子計算機...
不追求全面掌握晶片行業意識到造芯是一項難度巨大,投入不菲且需要跨國協作的專案,中國其實無需追求全面掌控晶片行業,但是要追求減少對美國的依賴...
然而,老美為了遏制我國半導體晶片崛起,已經到了“喪心病狂”的地步,今年多次向荷蘭方面施加壓力,遊說ASML公司,停止向中國市場出口用於14nm等成熟晶片製程的DUV光刻機...
光刻機可以說是阻礙國產晶片崛起的一大“藩籬”,尤其是EUV光刻機,作為7nm以下先進晶片的核心製造裝置,全球能生產的只有荷蘭ASML...
很多人都會認為,華為就算現在能研製光刻機,但也是不能比擬荷蘭的,我們目前並不是為了去與誰作比較,而是要實現“晶片自由”,因為只有這樣我們才能擺脫美國的“封鎖”,才能不被其他的國家所“壓制”...
邏輯晶片晶圓廠不同晶片節點的光刻機需要投資比例到了7奈米以下,先進邏輯晶片所需要的EUV光刻機的投資比例不斷增加:1,5奈米節點的EUV光刻機比例達到60%...
而且全球知名半導體巨頭不斷公佈好訊息,(鎧俠)奈米壓印微影技術,不用光刻機就可以實現5nm工藝的量能,佳能為中國市場也是量身定製晶片及奈米壓印光刻機,一旦完成研發,將會代替EUV光刻機...
那麼就連ASML首席技術官都對High-NA EUV技術之後的光刻機不抱希望,那麼這就說明High-NA EUV或許就是EUV光刻機的終點了...
作為光刻工藝的核心裝置,光刻機也是所有半導體制造裝置中技術含量最高的裝置,而其光刻的工藝水平直接決定了晶片的製程和效能水平...
大家都知道,俄羅斯在半導體和微電子行業其實並不發達,俄羅斯錯過了歐美髮展出來的二進位制晶片業,因此俄羅斯現在使用的晶片,90%以上也都是依賴進口...
可以說,這些核心元器件來自不同國家的企業,才促使ASML生產製造出來這麼先進的裝置,所以在EUV光刻機出貨方面,需要42個國家都同意才能夠自由出貨,並美一家...